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此外,EUV光源在经过十几次光学镜片的折射后,原有光源的能量也会大大遭到削弱,原来的100%,到最后能量可能只会剩下不到3%,这也是为什么对EUV光源的要求就是功率足够强,不然的话,华国也不可能在光源上实现不了突破,毕竟方法都知道,不可能造都造不出来。

而X光刻机就不同了,因为是直写式,不需要经过镜片折射,所以根本不用担心光源功率不足的问题,反倒要担心的是曝光时间稍微长了一点,反倒会影响到最终的效果。

当然,X光优点很多,但同样也有缺点。

那就是相比较EUV光刻机来说,光刻效率比较低,在实现大规模生产上比较困难,这也是为什么X光刻机没有占据主流的原因,虽然到现在也仍然再用,不过并不是那么引起人们的关心。

不过,这个问题林晓自然是考虑到了,而他觉得X光刻机能搞,便是因为他刚才闪过的灵感,让他有了一个实现X光刻机大规模生产的方法。

那就是利用衍射效应。

X光是能通过晶体进行衍射的,并且一般来说,晶体结构基本上是利用X光衍射来测定的。

但是反过来说,如果选取合适的晶体材料作为透镜,然后利用衍射效应实现对X光的缩放,进而就能实现像EUV光刻机那样的生产效率,在加上X光那强大的能量,实现更加快速的生产效率,十分的轻松。

当然,其中就有一个困难的问题了,那就是这个合适的晶体是什么,此外,利用衍射效应实现对X光的控制,其中需要处理的数据十分庞大。

所以到现在虽然也有利用这种衍射效应去实现芯片制造的,但是基本上都仅限于一些特殊的图形,应用案例十分之少。

对于林晓来说,他也仅仅只是这么想一想。

虽然现在的他还有一点把握,但是要是他给外界的人说自己要搞X光刻机的话,恐怕他们华芯盟第二天就得退出个一大半。

不再多想,他重新将目光投入到眼前的数学模型中。

如今升级了的他,再次回顾起这个模型,心中忽然觉得,这个模型似乎还有些欠缺啊?

“唔……这个模型似乎还可以再优化一下。”

经过片刻的思考,他找到了可以优化的点。

“嗯,离子抛光机校准系统,还有一点可以优化。”

离子抛光机的校准系统受到本身精度的影响,当然,考虑到内部磁场的影响,离子束的轨道是会受到磁场干扰的,就像是粒子加速器也会受到磁场的各种干扰。

所以如果在校准系统中对磁场干扰误差进行更加精确的修正,或者说是利用磁场误差和离子抛光机自身精度误差的差值,同样也能实现更加精准的抛光。

想到这,林晓立马开始动手计算,而这一步,其实很容易,那就是根查法。

离子束抛光机,喷射等离子体,磁场误差影响……这些东西加起来,可不就能够用根查法来解决吗?

当然,由于结构有些不同,还有功能上的不同,所以也需要对根查法做一个简单的修改。

而这一步,并不困难。

《从全能学霸到首席科学家 第32章》第369章(第1/2页)
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